플라즈마 식각 장치

Etching apparatus using the plasma

Abstract

본 발명은 플라즈마 식각 장치에 관한 것으로, 기판이 안착되는 기판 지지대와, 상기 기판 식각될 면과 인접 배치된 전극과, 상기 기판과 인접하는 전극 표면 상에 형성된 유전막 및 상기 전극과 기판 지지대 간의 전위차를 발생시키기 위한 전원수단을 포함하는 플라즈마 식각 장치를 제공한다. 이와 같이 기판이 안착된 기판 지지대와, 기판의 단부 영역을 감싸는 전극 사이에 전위차를 주고, 기판과 전극 사이의 거리를 3mm이하로 하여 기판과 전극 사이 영역에서 국부적으로 플라즈마를 발생시켜, 기판 단부 영역의 파티클 및 박막을 제거할 수 있고, 또한, 기판 상부 중심 영역에 커튼 역할을 하는 가스를 분사하여 기판과 전극 사이에서 발생한 플라즈마가 기판 상부 중심 영역으로 유입되는 현상을 방지할 수 있으며, 대기압 근처와 상온 상태에서 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 플라즈마, 식각 장치, 대기압, 유전체 장벽 방전, 파티클

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    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    KR-20020080955-AOctober 26, 2002(주)소슬plasma etching device

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